半导体行业反渗透纯水设备的特点表现在哪里？在半导体材料的生产和清洗工作中，需要使用反渗透超纯水江南jiangnan(中国)来进行超纯水的制备，实现水质生产的绝缘接触。半导体行业使用纯水江南jiangnan(中国)通常表现为水量小，标准高，工艺复杂等几个方面。接下来我们就来解析一下半导体行业使用反渗透超纯水江南jiangnan(中国)的性能优势。

1 水量不大

在集成电路、光伏发电、电子产品和通信领域之中，半导体材料大行其道，其中尤以单晶硅和多晶硅的应用广泛，且研究至今，工艺逐渐成熟。在半导体生产过程中清洗金属制品的时候，对于水量的要求通常在0.5吨/时-3吨/时不等。

2 出水标准高

超纯水的定义是去除水中导电介质的水质，符合单晶硅生产的绝缘条件。对于单晶硅清洗的出水，通常规定为电阻率要达到18兆欧，自然水电导率高且在硬度、浊度、总大肠菌群等多种指标是远远无法达到出水标准的，为此需要用到超纯水江南jiangnan(中国)对原水进行处理。

3 工艺复杂

在食品加工行业或者化工行业，可能单极或者双极反渗透江南jiangnan(中国)就可以满足条件。但是在半导体行业，双级反渗透工艺也是远远不够的，而是需要在双级反渗透的基础上加上edi连续电解除盐装置甚或抛光混床才可以。

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